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Crystal Growth MWT (M2 - M3)12.5 ECTS

Modulverantwortliche/r: Peter Wellmann
Lehrende: Peter Wellmann, Jochen Friedrich, Stefan Kasperl


Startsemester: WS 2013/2014Dauer: 2 SemesterTurnus: halbjährlich (WS+SS)
Präsenzzeit: 110 Std.Eigenstudium: 190 Std.Sprache: Deutsch und Englisch

Lehrveranstaltungen:


Empfohlene Voraussetzungen:

Bachelor in Materialwissenschaft, Nanotechnologie, Energietechnik, Elektrotechnik, Physik, Chemie oder in einem vergleichbaren Studiengang.

Inhalt:

Grundlagen des Kristallwachstums und er Halbleitertechnologie

  • Grundlagen des Kristallwchstums

  • Grundlagen der Silizium Halbleitertechnologie (Oxidation, Dotierung mittels Diffusion und Ionenimplantation, Ätzen, Metallisierung Lithographie, Packaging)

Elektronische Bauelemente und Materialfragen

  • Korrelation von Bauelementfunktion (Bipolar-Diode, Bipolar-Transistor, Schottky-Diode, Feldeffekt-Transistor, Leucht- und Laserdiode) mit Materialeigenschaften

  • Grundlagen der Epitaxie

Praktikum:

  • Czochralski Kristallwachstum vonInSb

  • Modellierung in der Kristallzüchtung

  • Halbleitercharakterisierung

Lernziele und Kompetenzen:

Die Studierenden

  • erwerben fundierte Kenntninsse über Materialeigenschaften und deren Anwendungen in elektronischen Bauelementen

  • lernen experimentelle Techniken in den Werkstoffwissenschaften kennen und können sie selbständig anwenden

  • können Theorien, Terminologien und Lehrmeinungen des Faches, erläutern, anwenden und reflektieren

  • können in Gruppen kooperativ und verantwortlich arbeiten

Literatur:

wird in den Lehrveranstaltungen angegeben


Studien-/Prüfungsleistungen:

Crystal Growth MWT 3 (Prüfungsnummer: 963688)
Studienleistung, benotet

Erstablegung: WS 2013/2014, 1. Wdh.: SS 2014
1. Prüfer: Peter Wellmann

Crystal Growth MWT 3 (Prüfungsnummer: 554832)
mündliche Prüfung, Dauer (in Minuten): 30, benotet

Erstablegung: WS 2013/2014, 1. Wdh.: SS 2014
1. Prüfer: Peter Wellmann

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